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硅片清洗用水生產少不了超純水設備

2022-11-22

  半導體材料和設備作為半導體產業鏈上游的產業,屬于芯片制造和封裝測試的支撐產業,因此常被稱為整個行業的“賣鏟人”。作為半導體材料的大宗產品,90%以上的半導體產品由硅片制成,因此市場需求非常大。2021年全球半導體硅芯片出貨面積將達到142億平方英寸,市場規模將達到140億美元。(數據來源:賢集網)

超純水設備

  硅片清洗是生產的重要組成部分。同時,應使用無雜質的超純水進行清洗。超純水設備出口電阻率高,無雜質,無導電性。在硅片清洗超純水設備的設計中,采用了兩級反滲透和EDI相結合的制水工藝,具有水利用率高、運行可靠、經濟合理的特點。與傳統方法相比,該工藝具有以下優點:

  1、再生不需要再生化學品。EDI超純水設備在運行過程中不需要添加任何化學品,降低了系統運行成本。

  2、不需要中和劑。EDI超純水設備運行期間,不會產生酸堿廢液,因此不需要酸堿中和槽。通常,EDI超純水設備產生的濃縮水可以完全回收。

  3、整個系統的運行成本低。EDI超純水設備主要消耗電力來維持系統運行,其功耗低于傳統的混床工藝。

  4、水資源利用率高。與混床工藝相比,EDI超純水設備的利用率可達95~99%,有效提高了水資源的利用率。

  5、EDI超純水設備無需更換樹脂即可連續工作,無需人工操作,自動化性能強。

  6、EDI超純水設備設計緊湊,占地面積小,安裝方便。

  隨著國家政策支持力度的不斷加大,硅片行業對超純水的需求也在不斷增加。萊特萊德超純水設備出水電導率高達18MΩ·CM(25℃)。我們的目標是為用戶提供高品質的超純水設備和實用解決方案。

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