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超純水技術成為電子行業發展的重要基石

2022-07-26

  迄今,能源、材料和信息被認為是新興新技術革命的三大支柱。在材料方面,電子材料的發展尤為引人注目。劃時代的半導體生產新技術、新材料、新儀器不斷涌現,迅速成為生產力和生產工具,在一定程度上促進了集成電路產業的快速發展。

  半導體工業在生產過程中需要大量的清洗水。隨著半導體工業的不斷發展,對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles的要求也越來越嚴格。由于半導體超純水對多項指標的要求較高,超純水不同于它他行業對水的要求,半導體行業對超純水的水質要求較為嚴格。目前,我國常用的超純水標準是國家標準《電子級水》(GB/T1446.1-2013)和美國標準《Standardguideforultra-Purewartertertelecteronicteronictonictenducterinductes》(Astm-D5127-13)。

  超純水設備可連續穩定地制備優質超純水,水質穩定在ppt水平,特別是硼離子可≤5ppt,可更好地幫助半導體企業的發展,形成更強的企業競爭力。

  超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,設計成熟、可靠、自動化程度高,保證處理后出水電阻率達到18mΩ。CM以上。EDI處理裝置廢水產量少,不會污染環境,具有很高的環境效益和經濟效益。經過技術升級,精混床無需任何操作即可穩定運行兩年。其出水水質能滿足芯片生產用水的相關標準,降低企業生產風險和成本。在萊特萊德EDI超純水設備的大力支持下,半導體行業的繁榮將繼續上升。

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