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超純水去硼是半導體行業的關鍵

2022-07-26

  制造半導體需要經過8個主要步驟。超純水主要用于半導體制造過程中的某些步驟前后的清洗。比如,蝕刻后,切割晶片,然后用超純水清洗殘留物。另外,離子注入后,可以清除殘留離子。另外,也可以用來對晶片進行拋光和切割。?

  超純水是在半導體生產過程中使用的一種清潔劑。所以,使用超純水對半導體生產有什么影響呢?采用納米超精細工藝加工半導體時,如果在不同工藝過程中留有一小粒粒子,將引起誤差。所以,在不同的工藝中,用超純水清洗晶片,能夠保證潔凈度,并提高半導體的生產率(輸出)。

  伴隨著半導體工業的發展,對潔凈水的電導率、離子含量、TOC、do、微粒的要求也越來越高。在很多方面,超純水對半導體提出了很高的要求,所以在半導體工業中,超純水和其他行業是不一樣的。在超純水領域,半導體工業對水質要求非常嚴格。當前,國內普遍采用的超純水標準(GB/T11446.1-2013)和國家標準“電子級水”。

  硼是半導體生產過程中的一種p型雜質。過多將導致n型硅倒轉,從而影響電子和空穴的濃度。在超純水工業中,對硼的去除應該給予足夠的重視。在硼離子美標中,e1.3要求小于0.05。當硼離子含量達到較低的指標時,半導體性能必然得到改善。

  Huncotte系統選用核級樹脂,通過獨特的目標離子交換樹脂,能有效地控制出水中硼離子含量。用IPC-MS法測定硼離子含量,對硼離子流出物的分析≤0.005μG/L,遠遠低于美標E1.3中所要求的硼離子含量。

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