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萊特萊德·環境與大家相聚于這場盛會，我們共同探討行業前沿技術，共創新機遇，共謀合作機會，在此次大會中感受到半導體行業的生命力。...
超純水設備可生產出芯片生產過程中的清洗用水超純水，保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。...
萊特萊德超純水設備具有出水連續、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優點。出水水質符合半導體行業相關標準。...
萊特萊德超純水設備生產的超純水的電阻率可達到18MΩ*cm(25℃)，完全符合集成電路清洗用水要求。...
芯片產業應用的超純水設備摒棄了傳統工藝，核心是采用的膜分離技術，應用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產超純水，不僅產水量增加，出水水質能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標準， 滿足了芯片行業用水...
超純水設備廢水產量少，不會污染環境，具有很高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。...
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