微信關注
超純水的誕生可有效的去除了水中的雜質和懸浮物，電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)，幫助芯片、單晶硅、半導體等行業實現清潔生產。...
使用EDI超純水系統時有一定的規則，用戶需要遵守這些規則。首先，在使用設備時，不能立即進入工作狀態。操作前必須預熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統的維護和使用注意事項。...
萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準。...
萊特萊德超純水設備采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝，能有效去除水中雜質，保證設備出水水質。...
EDI超純水設備操作簡便、無污染，是清潔生產技術，在微電子工業、電工業、醫藥工業、化工工業和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。...
企業網址m.10co.cn
咨詢熱線021 3100 9988
電話熱線010 5165 9999
版權所有：萊特萊德·水處理
遼ICP備12004418號-76
遼公網安備21012402000201號
免費電話咨詢
免費獲取方案